静电吸盘(E-Chuck， 也称ESC)是集成电路设备的重要部件之一，广泛用于刻蚀、PVD、CVD等设备中。静电吸盘的主要功能体现在如下3个方面。

(1)通过静电吸附的方式承载、固定圆片。

(2)利用低温冷却器或加热器对静电吸盘进行温度控制，通过在静电吸盘与圆片之间通人氦气，使得圆片与吸盘可以更好地进行热传导，间接控制圆片的温度。

(3)为圆片提供偏压射频功率。

按照电极数量划分，静电吸盘分为单极型和双极型;按照静电吸附力的原理模型划分，静电吸盘分为库伦(Coulomb) 型(纯电介质吸盘)和约翰森-拉贝克(Johnsen -Rahbek, J-R)型(掺杂电介质吸盘)。这两种类型的静电吸盘都是靠静电荷的异性相吸来固定圆片的。约翰森-拉贝克型静电吸盘的吸力比库仑型静电吸盘的吸力大，其电介质通常是掺杂的氮化铝陶瓷材料，有较好的导热性。一般来讲，静电吸盘均利用的是库仑力和约翰森-拉贝克力的组合作用。

静电吸盘结构一般由吸盘基体、表面陶瓷介质层(内嵌直流电极)、氦气沟道、温度传感器、冷却液通道和射频引入端等部分构成，如图8-256所示。

在静电吸盘的表面陶瓷介质层中镶嵌着一个直流电极 (比圆片稍小)，电极被接通到高压(低流)直流电源后，电介质表面会产生极化电荷(对约翰森-拉贝克型静电吸盘而言，不仅有极化电荷，还有很大部分的自由电荷)，而电介质的表面电荷会产生电场，该电场会使吸盘上的圆片表面相应产生极化电荷(包括部分自由电荷);分布在圆片背面的电荷与分布在吸盘上面的电荷极性相反，产生吸引力，于是圆片被吸盘吸住。

除了直流电极，静电吸盘中还有射频电极引入端，用来提供圆片处理过程中需要的射频偏置功率。另外，还配置有用于冷却和控温的冷却液通道和氦气沟道。