干泵是集成电路设备中的重要配套设备之一，主要用于为集成电路设备提供真空工艺环境，广泛用于LPCVD、刻蚀、PVD、CVD等真空设备中，此外还可应用于化学工业、医药工业、食品工业(蒸馏、干燥、脱泡、包装等)，以及除半导体工艺外的某些产生微粒的工艺，防止有机溶剂污染或油污染。相比于传统机械泵，干泵具有洁净度高、机械性能优良、可靠度高、维修少等特点。

根据工作原理的不同，干泵大体分为干式螺杆真空泵、无油往复真空泵、爪式真空泵和无油涡旋真空泵等。干泵的工作压力范围为10(-3)~10(3)Torr。按结构形式的不同，干泵可分为接触型(包括叶片式、凸轮式、往复活塞式、膜片式等)和非接触型(包括罗茨式、爪式、螺杆式、涡轮式等)。接触型干泵速度较低，适用于小容量、高压缩比的情形。非接触型干泵速度较高，适用于大容量、低压缩比的情形。干泵的类型很多，各具特点，可根据具体的使用要求加以选择。图8-248和图8-249所示为两种干泵的工作原理示意图。

目前国外的干泵制造商有美国的瓦里安(VARIAN)、 德国的普发真空(PFEIFFER VACUUM)和菜宝(Leybold)、 英国的爱德华( Edwards)、法国的阿尔卡特(ALCATEL)、日本的爱发科(ULVAC) 和荏原(EBARA)等。半导体领域使用的干泵的单台售价一般为一 万美元至数万美元。